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: 布鲁克Dektak Pro：第十一代探针式轮廓仪，重新定义精密测量的精度与效率2026-05-29

作为Dektak系列的旗舰升级款，DektakPro凝聚布鲁克55年技术创新，将接触式测量的性能推至全新高度。核心精度：垂直分辨率1Å，台阶高度重复性稳定优于4Å，数据精准度与重复性比肩实验室顶级标准。搭载直驱扫描台与Vision64智能软件，自动台阶检测减少人为误差，2D/3D形貌、应力、晶圆翘曲一键分析。硬件兼容：支持200mm（8英寸）样品，扫描长度达......

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等离子蚀刻机的原理和应用，快来了解一下！ 2021-07-26

等离子体是部分离化的中性气体，在等离子体中自由电子与中性分子，原子进行碰撞，通过碰撞电离，进一步得到更多的电子和离子。基于电子的能量，可以获得更丰富的离子，激发态高能中性粒子等，同时由于电子吸附在中性气体表面还可获得负离子。刻蚀方法在塑料印刷和粘合时作为预处理手段是十分重要的，等离子蚀刻机用于刻蚀塑料表面，通过氧气可以......

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谁知道等离子去胶机的原理？ 2021-07-22

等离子去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化氧（活泼的原子态氧）可以迅速地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体，被机械泵抽走，这样......

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影响等离子去胶机处理效果的四大因素 2021-07-22

等离子去胶机是适用于硅基半导体及化合物半导体前后道的等离子体去胶设备，主要用于光刻胶的剥离或灰化，也可用于有机及无机残留物的去除，去除残胶以及等离子刻蚀的应用，清洗微电子元件、电路板上钻孔或铜线框架，提高黏附性等，它的设计紧凑，占地面积小，设备运行稳定可靠、易于维护、产能高。它的工艺简单、效率高，处理后无酸气废水等残留......

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等离子蚀刻机的原理 2021-07-19

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材......

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